某半导体芯片创造各个企业因晶圆洗环节制造含氨工业废水，用水量200吨/天。工业废水里面的除化学需氧量外还包含的氟化物和轻微天价属，治理难度很大大。立即污染物标淮需求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理工艺营养成分及起源 晶圆清洁工作生活污水（最主要的从何而来）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程废水处理方法：含进样器铜、镍等巨资属，pH值起伏大 CMP粉磨废液：含硅颗料及化学需氧量 处置施工工艺鑫霖环保流程 运用"耐腐蚀积淀+膜拆分+折点氯化"结合工艺设备： 预净化处理 ：加药CaCl2除氟，保持pH在7.5-8. 反渗透膜程序 ：去掉0.01μm上颗粒状物 反渗透设备到浓缩咖啡 ：将氯离子精提至1000mg/L这 折点氯化 ：精准管理氯污泥脱水量，将氯离子转成为惰性气体 铝离子交易 ：安全保障天价属达到 不可能视觉效果 氯离子安全＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属水分含量不超过检则限 水循环率达75% 飞灰有量降低40%