佛山某半导体行业基带芯片制作业厂，晶圆工艺流程中呈现含硅、氟的唯一性废渣，来设计正确补救企业规模1200吨/日。废渣有效成分繁多，富含纳米技术级硅颗料及氢佛酸，一般正确补救具体方法不好考核标准。 生活污水有效成分及来自 首要废弃物物 ：固体硅（100-500nm颗粒直径）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 來源步骤 ：晶圆刻蚀污水（45%）、CMP生物学机增加光泽污水（40%）、环保设备擦拭水（15%） 外理艺环节 的创新选用"电化学沉垫+特种车膜转移"技术水平路线地图： 钙盐石雕文化沉淀 ：加药系统氯化钙取除氟铁离子（提取CaF2乳浊液） 斜管沉淀池反映 ：组合斜管沉淀池剂达成溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm外径膜公款私存微细粒子 反渗设备 ：脱盐率>98%，收废率75% 多效蒸发成果 ：浓水段保证 氟化物无废气排放物 终极治疗效果 氟化物溶液浓度：<8mg/L（少于发达国家3级的标准10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水资原造纸废水处理率：70%广泛用于方形冷却塔塔保湿 垃圾限制：挥发残留量较过去的工艺流程限制60%